Главная Материалы Новая совместная разработка от L?scher и Agfa
   

Новая совместная разработка от L?scher и Agfa

4 мая 2009   Комментарии (0)    



Компании L?scher и Agfa анонсировали новый материал, созданный специально для технологии экспонирования в CtP-системах L?scher c УФ-лазером. Эти аналоговые позитивные и негативные пластины получили название Aluva P и Aluva N.

Формы Aluva обеспечивают высокое разрешение и максимально соответствуют всем специфическим свойствам пластин для лазерного УФ-экспонирования. По словам экспертов, результаты проведенных тестирований были настолько успешны, что в настоящий момент ведутся переговоры о совместном маркетинге данного материала.

«Плейтсеттеры с УФ-лазарами, способные экспонировать обычные аналоговые пластины, завоевывают все большую популярность на рынке. А появление пластин, идеально сконструированных под данную технологию, обнадеживает и открывает еще большие прспективы на будущее!» – заявил Курт Стейдел, член правления компании L?scher.


Источник: МакЦентр

   

купить закись азота в Москве
Прямой эфир

Главные новости от RuPrint.Ru (пример)


Календарь
«    Май 2009    
Пн Вт Ср Чт Пт Сб Вс
 
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
21
22
23
24
25
26
27
28
29
30
31



Любое использование материалов портала RuPrint.Ru допускается только с письменного разрешения правообладателя.
Автоматизированное извлечение информации запрещено. Правила использования.